庆祝西泠印社建社120年丨西泠印社第七届“孤山证印”学术研讨会今日在杭开幕

11月13日，庆祝西泠印社建社120年系列活动之西泠印社第七届“孤山证印”学术研讨会在杭州开幕。

第七届“孤山证印”学术研讨会今日开幕

本次学术研讨会以“20世纪以来中国篆刻与西泠印社关系之研究”为主题，不仅是对西泠印社在篆刻艺术历史上的总体回顾，更是对西泠印社在印学理论研究上取得的丰硕成果的肯定。期望通过本次研讨会，能够进一步总结西泠印社在印学理论研究方面的经验，探讨新时代下篆刻艺术与印学理论的发展方向，为中国篆刻艺术的未来发展贡献新的力量。

研讨会现场

来自海内外印学及相关研究领域的专家学者、部分西泠印社理事和社员，以及浙江大学、中国美术学院、浙江财经大学、杭州师范大学等部分在杭高校相关专业师生一百三十余人参加了研讨会。研讨会首日，二十余位专家学者围绕“20世纪以来中国篆刻与西泠印社之关系研究”的主题，从各自的学术研究成果开展了研讨。